Буквально на днях информационное агентство Reuters представило неофициальные сведения, согласно которым тройка ведущих производителей интегральных микросхем – Intel, Samsung, Toshiba – планирует объединить усилия в разработке 10-нм технологического процесса, подключив к новообразованному консорциуму еще около десятка компаний, занятых в полупроводниковой промышленности. Можно много спорить, будет ли подобный альянс организован вообще, но в качестве одной из причин его организации называется высочайшая стоимость подготовки производства при внедрении столь точного процесса. Последние сведения, касающиеся суммы затрат Intel на приобретение нового литографического оборудования.

Фотолитографическое оборудование ASML

Согласно информации от аналитиков, ведущий мировой чипмейкер в 2011 году потратит в общей сложности около $1,5 млрд только на приобретение станков для проведения процесса литографии. Японская компания Nikon некоторое время являлась единственным партнером Intel по поставкам новейшего литографического оборудования, теперь же, как ожидается, поставки оборудования для 22-нм процесса будет осуществлять еще и ее конкурент - ASML Holding NV.

По мнению аналитиков на приобретение нового технологического оборудования у компании Intel в 2011 году уйдет в общей сложности около $5,2 млрд. По их информации, чипмейкер закупит двадцать семь установок иммерсионной литографии и пятнадцать установок, использующих в качестве источника излучения KrF-лазеры. Исходя из средней стоимости указанных аппаратов производства ASML/Nikon, только на литографию компании придется затратить $1,5 млрд.

Для сравнения, в 2010 году компания Intel приобрела двадцать шесть установок иммерсионной литографии с применением 193-нм излучения. Около восемнадцати из них являются продуктами Nikon, и восемь поставила компания ASML. Итого, бюджет чипмейкера на эти цели составил примерно $988 млн.

02/11/2010 18:57 Автор: Bakatkin

Источник